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方程没在这个问题上继续说一下,而是道:"我将大体的思路跟大家说一下,然后我们再一起讨论。
现在西方光刻机光源主要应用的激光等离子体技术,这个我就不多说了。主要讲讲放电等离子体技术。"
方程坐在那里开始了他的介绍。
放电等离子体技术,其实就是通过快脉冲、大电流对介质放电,然后形成高温高密度等离子体,从而实现极紫外辐射光自发辐射输出。
而根据放电方式的不同,放电等离子体技术又分为等离子体焦点技术、中空阴极管放电技术、毛细管放电等离子体技术、激光辅助放电等离子体技术。
激光辅助放电等离子体机制极紫外光刻光源,用锡做为工作介质,用纳秒激光与锡相互作用在正负电极之间产生锡的初始等离子体,形成放电通道…
方程大概讲了一遍后,继续道:"国外在几年前也有过此类的研究,相信大家也有耳闻。
虽然放电等离子体技术有诸多优点,比如光源结构简单,投资运营成本低,适合大规模工业应用等。但它的缺点同样很多。
比如说,碎屑控制、重复频率、放电条件下光源稳定性、增大光源输出角等问题。"
在座的众人纷纷点头。这也是他们过来参观方程式有限公司的主要原因。
"我们公司根据其缺点,逐一进行了解决!"
此言一出,会议室内顿时一片倒吸冷气声!
如果真如方程所说,这些问题都解决的话,那可以说,国外那所谓的封锁,在以后就只是个笑话而已。
毕竟相比阿麦斯的光刻机来说,其光源上面临的困难也是很多的。
他们之所以放弃激光辅助放电等离子体技术,就是因为这些难题一直得不到解决。
大家连忙屏气凝神,静待方程的讲解。
"先来说一下关于碎屑的控制问题。大家都知道碎屑的产生是因为激光轰击锡物料所产生的。
这种碎屑一旦沉积在反射镜表面,就会影响到极紫外光的输出功率,从而影响光刻效率,降低光刻机的使用寿命。
有研究机构提出,可以利用加磁场来降低离子动能。但这只对带电离子有效。
也有提出充加缓冲气体,来增加原子和离子的阻力。效果有吗?有,可是不大。"
众人听了纷纷点头。
"我们另辟蹊径,采用了一种全新的技术理论,浮游离子吸附加力引导!
通过这种技术,可以有效地降低碎屑的单位密度,从而做到对碎屑有效控制。"
方程说完,继续道:"我们再来讲一下关于重复频率的问题…"
"等等。"一名老者举手示意道:"方总,你能不能将这个浮游离子吸附加力引导,详细地讲一下?"
方程看了看大家希翼的神情,无奈地说道:"大家的想法我知道。可是这是我们公司的机密技术,在这里实在不方便过多透露。"
有人马上问道:"方总,你的意思是说这项技术你们没有申请专利吗?"
方程点了点头道:"没有。大家都知道申请专利,是需要将技术完全展示的。
在我们还不具备制作出完整光刻机以前,这项技术我们是不会申请专利的。
希望大家能够理解。"
方程向大家表达了一下歉意后,继续讲起了后面的各种问题。
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